PROCESS EQUIPMENT
工艺设备
离子注入（HI）
注入元素种类：B/P最大注入能量：180keV 最大注入剂量：1E16 atom/c㎡RS_U<1%
2024-11-05
热氧化&退火&化学气相沉积
低压沉积&热氧化： LPPOLY LPTEOS LPSIN TOX：均匀度<1.5%；Stress:-260Mpa热退火： 高温炉管：最高1200℃，精度±1 ℃ 真空OVEN：最高450 ℃，氧含量<10ppmr
