PROCESS EQUIPMENT
工艺设备
双面对准曝光机
对准精度:正面±1um 背面±1.5um CD均匀度<3%
2024-11-05
步进式曝光机
最小分辨率:0.35um 对准精度:0.12um CD均匀度<3%
涂胶显影一体机
大范围可控:正胶膜厚 负胶膜厚 LOR胶,PI胶,电镀负胶,正胶