铌酸锂薄膜器件

工作原理

关键工艺及参数

                                                     LNOI干法刻蚀——低光损耗

                                                     有源层多种金属膜层可选      

                                                     电极沉积/刻蚀工艺——低电损耗

                                                     耦合层工艺

                                                     通光损耗 <0.2dB/cm  

                                                     带宽 > 80GHz

应用场景

数据中心

长距离通讯